Substrate treatment equipment and substrate treatment method



【課題】 基板上の感光性材料の成分が露光装置における液体中に溶出することを防止できる基板処理装置および基板処理方法を提供することである。 【解決手段】 基板処理装置500は、インデクサブロック9、反射防止膜用処理ブロック10、レジスト膜用処理ブロック11、現像処理ブロック12、レジストカバー膜用処理ブロック13、レジストカバー膜除去ブロック14およびインターフェースブロック15を備える。インターフェースブロック15に隣接するように露光装置16が配置される。レジスト膜用処理ブロック11において、基板W上にレジスト膜が形成される。露光装置16において基板Wに露光処理が行われる前に、レジストカバー膜用処理ブロック13においてレジスト膜上にレジストカバー膜が形成される。 【選択図】 図1
<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide substrate treatment equipment in which a photosensitive material on a substrate can be prevented from eluting into liquid in an exposure device, and to provide a substrate treatment method. <P>SOLUTION: The substrate treatment equipment 500 comprises an indexer block 9, a treatment block 10 for antireflection film, a processing block 11 for a resist film, a developing block 12, a treatment block 13 for a resist cover film, a block 14 for removing the resist cover film and an interface block 15. An exposure device 16 is arranged contiguously to the interface block 15. At the treatment block 11 for the resist film, the resist film is formed on a substrate W. Before exposure treatment is performed on the substrate W in the exposure device 16, the resist cover film is formed on the resist film in the treatment block 13 for the resist cover film. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI




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    US-8941809-B2January 27, 2015Screen Semiconductor Solutions Co., Ltd.Substrate processing apparatus and substrate processing method